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scheda bibliografica validata  |
| Tipo: |
Testo a stampa, Monografia |
| Autore principale: |
Holland, L. |
| Titolo: |
Vacuum deposition of thin films / L. Holland ; with a foreword by Professor S. Tolansky |
| Pubblicazione: |
London : Chapman and Hall, 1970 |
| Descrizione fisica: |
xix, 555 p., [12] carte di tav., 1 carta di tav. ripiegata : ill. ; 23 cm |
| Titolo uniforme: |
Vacuum deposition of thin films |
| Numeri standard: |
SBN 412 053802 |
| Responsabilità secondaria: |
Tolansky, Samuel (1907-1973) [Autore introduzione, etc.]
| Tipo autore: |
Persona |
| Nome autore: |
Tolansky, Samuel (1907-1973) |
| Identificatore: |
ISNI 0000 0001 1479 8939  |
| Genere: |
Maschio |
| Datazione: |
1907-1973 |
| Registrazione n°: |
IT/ItRC/AUTHA/00001772 |
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data di creazione: 13-03-2014
data di aggiornamento: 09-12-2014 |
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| Classificazione Dewey: |
620.16 ed.22 Meccanica e materiali dell'ingegneria - Metalli |
| Lingua della pubblicazione: |
Inglese |
| Paese di pubblicazione: |
Regno Unito |
| Codice identificativo: |
IT/ItRC/00008998 |
| data di creazione: |
13-03-2014 |
| data di aggiornamento: |
09-12-2014 |
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Copertina, frontespizio, indice |
Lista sintetica
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