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| Tipo: |
Testo a stampa, Monografia |
| Titolo: |
Advances in resist technology and processing 17.: 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA: [proceedings of the Conference]: Pt. 2 of 2 pts / Francis M. Houlihan, chair/editor; sponsored by SPIE - the International society for optical engineering; cooperating organizations: SEMI - Semiconductor equipment and materials international, International SEMATECH |
| Pubblicazione: |
Bellingham : SPIE, 2000 |
| Descrizione fisica: |
xiv, p. 620-1252 ill. 28 cm. - (Proceedings of SPIE - the International society for optical engineering, 3999, 2) |
| Titolo uniforme: |
Advances in resist technology and processing 17.: 28 February - 1 March 2000, Santa Clara, USA: [proceedings of the Conference]: Pt. 2 of 2 pts |
| Numeri standard: |
ISBN 0819436178 |
| Note generali: |
Sul front.: part two of two parts. - Tit. alter. della Coll.:S PIE proceedings series, 3999, 2 |
| Altre responsabilità: |
Conference: Advances in resist technology and processing, 17., Santa Clara, 2000
Houlihan, Francis M.;Society of photo-optical instrumentation engineers (SPIE);SEMI |
| Classificazione Dewey: |
620.192 ed.22 Meccanica e materiali dell'ingegneria - Polimeri
537.622 ed.22 Elettrodinamica (Correnti elettriche) e termoelettricità - Conduttività e resistenza elettrica - Semiconduttività
668.9 ed.22 Tecnologia di altri prodotti organici - Polimeri e polimerizzazione
621.381'531 ed.21 |
| Lingua della pubblicazione: |
Indeterminata |
| Paese di pubblicazione: |
Indefinito |
| Codice identificativo: |
IT/ItRC/00246147 |
| data di importazione: |
01-01-2014 |
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